化学 スパッタリング装置の原理について説明します。
スパッタリングは、物理的気相蒸着(PVD: Physical Vapor Deposition)の一種であり、真空中で材料を薄膜として基板上に堆積させる技術です。このプロセスは以下のステップに分けられます。
化学
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